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表面處理與檢測整體解決方案
400-9600-662
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實驗型微波等離子去膠機
實驗型微波等離子去膠機
產品對比
下載
產品特點
處理過程溫度低；
反應速度快，反應時間短；
微波結合磁路可以兼容；
等離子電離與分解程度較高
產品概述
規格參數
硬件選配
應用范圍
碳化硅刻蝕
刻蝕后表面清潔
氧化硅或氮化硅刻蝕
刻蝕后表面清潔
介質與介質間光阻去除
表面殘留物清除
產品優勢
暫無數據
應用案例
產品推薦
SPE-201P等離子去膠機
自由基分子的等離子體無偏壓，不會對產品有電性損壞，去膠速率快
ICP干法等離子去膠機ST-3100
可BAW/SAW工藝中的光阻去除，配備單腔雙腔兩種類型
RIE Plasma等離子去膠機
可有效去除表面殘留物、介質與介質間光阻去除
設備整體參數
自動化程度
半自動
PLASMA電源
RF+BIAS
尺寸（L*W*H）
1140*1050*1620mm
適用范圍
4-8寸
單次處理片數
1
配件類型
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