下載
產品特點
ST-3100等離子去膠機采用高密度低損傷等離子源設計,采用獨立腔室結構設計,實現均勻的流暢分布,去膠均勻性表現優異。
離子注入后光阻去除
表面殘留物清除
刻蝕后表面清潔
聚合物去除
BAW/SAW工藝中的光阻去除